布魯克Bruke-(TXRF)S4 TStar,全反射X射線熒光光譜儀，XRF包裹支撐樣品膜

 布魯克Bruke-(TXRF)S4 TStar,全反射X射線熒光光譜儀，XRF包裹支撐樣品膜

美國Chemplex是X射線熒光光譜儀（XRF）備件耗材領域的生產廠家。Chemplex公司生產的XRF樣品杯和樣品膜廣泛應用于適用于以下等各品牌的X射線X熒光XRF光譜儀樣品膜

麥拉膜，預切圓片膜，薄膜樣品支撐框等等。材質有Etnom• Prolene• Mylar• Polypropylene• Zythene• Ultra-polyeter• Kaption • Microporous"

Bruker S2 Puma，S2 Puma w/ Xflash，S2 Ranger，S4，S8 w/ Flex Loader，S8 Tiger

XOS   Sindie®, Clora, Signal, HD Maxine, Phoebe, Peta，Sindie 3rd Generation

Horiba SLFA Units，6100/6800/60A，Mesa 7220

Innov-X Hand Held Units

Oxford Lab-X，MDX，Replacement Cells 54-LX6922，Replacement Cells & Covers: 54-CK-100，Replacement Cells & Covers: 54-CK-100 and L242 Holder

Malvern Panalytical Epsilon 3XL, MiniPal，Axios，Epsilon 5，Venus 200

Rigaku Mini-Z，Primus, Rix, ZSX-100

Spectro XEPOS, Xepos Low S, Xepos IQ, X-Lab 2000, 200, 200T Titan, Phoenix，IQ，Phoenix II，Scout

Thermo Advant'x

Xenemetrix X-Calibur, X-Cite

XRF 樣品杯和薄膜樣品支撐窗是 XRF 光譜法容納和分析樣品的基本必需品。從表面上看，該過程似乎相對簡單。將薄膜貼在新樣品杯的一端，引入樣品并將其插入 X 射線機中進行元素分析。

選擇合適的薄膜樣品支撐窗主要是基于滿足主要的重要實驗室要求：

• 使用方便

• 避免污染

• 樣品的耐化學性

• 分析物線透射率和強度

所提供的信息包括所提供的薄膜的主要包裝形式、各種類型的薄膜、評估適當薄膜以分析物線百分比透射率和樣品化學侵蝕抵抗力的方法。實驗室關注的其他問題可能包括樣品重量保留強度、壓差條件下的性能、積分時間、激發電勢和相關的熱量產生。

使用便利性和避免污染嘗試制備具有樣品支撐窗口的樣品杯時分配和處理薄膜是令人沮喪的、不方便的并且是污染源。這是由于薄膜固有的靜電荷產生靜電粘附。薄膜往往會粘在任何周圍的物體和人身上。這種現象可能會污染薄膜并影響 X 射線分析數據。

隨著 SpectroMembrane ®樣品支撐載體框架的出現，薄膜不會因處理或吸引空氣中的顆粒而產生令人討厭的靜電吸附或潛在的污染風險。除樣品杯外，薄膜絕不會與其他任何物體緊密接觸。薄膜 處理是通過使用集成載體框架來執行的，該載體框架在組裝過程中自動分離，留下繃緊的薄膜樣品平面。

光譜線的透射率 薄膜的透射率特性是計量厚度、密度和組成化學元素的質量衰減系數的函數。上面的分析物線透射率圖表和照片可能有助于為給定的分析樣品選擇正確的薄膜。簡單地指樣品中具有能量 KeV 或最長波長 ? 的元素的譜線。然后選擇透射率百分比最高的曲線。最后使用圖例來確定哪種材料和厚度。

耐化學性在選擇為感興趣的元素分析物系列提供高％透射率值的薄膜的同時，評估樣品的耐化學腐蝕性是一個適當的考慮因素。液體樣品通常比其他樣品形式更容易發生薄膜降解和破裂。請參閱“薄膜物質的耐化學腐蝕性"表。

對薄膜物質的完整性具有同等影響的其他因素包括：

• 積分時間 - 延長分析時間

• 激發電位 - 強烈的 X 射線照射

• 熱量產生 - 來自樣品和 X 射線源

強烈建議在實際使用之前對薄膜物質進行審慎的測試和評估，以避免分析過程中的意外事故以及對 X 射線儀器的潛在損壞以及昂貴的后續清理。

“選擇 XRF 薄文件樣品支撐窗口主要基于以下要求。 

• 避免污染

• 耐化學性

• 分析物線

• 使用便利性"

Chemplex 可根據您的要求提供不同類型、不同尺寸和格式的 XRF 薄膜

• Etnom
• Prolene
• Mylar
• Polypropylene
• Zythene
• Ultra-polyeter
• Kaption 
• Microporous"

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